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탁도 제거

Air Products의 Halia® 고도 산화공정 시스템은 APTwater, Inc.에서 사용 허가를 얻은 특허 받은 HiPOx® 반응기 기술을 사용하여 오존과 과산화수소를 결합하여 관류 흐름 반응기에서 OH 라디칼을 생산합니다. OH 라디칼은 활성도가 높은 산화제로 식수에서 탁도로 인한 오염물질을 제거하는 데 사용할 수 있습니다.

Air Products의
HiPOx® 기술을 사용한 Halia® 고도 산화공정 시스템 브로셔를 다운로드하십시오.

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